第61回日本画像学会技術講習会

―画像技術の基礎と最新技術―

 

日 時  :

2006年7月20日(木) 、7月21日(金)

場 所  :

コクヨホール 2階(東京都港区南1-8-35)
(20日:大ホール、3Fセミナー室)
(21日:大ホール、多目的ホール)    

主 催  :

日本画像学会 (The Imaging Society of Japan)

協 賛  :

画像電子学会、高分子学会、日本印刷学会、日本化学会、日本写真学会

【第一日】7月20日(木)大ホール

題 目所 属講 師
ハードコピー技術総論 =過去から未来を読む=(株)リコー平倉 浩治
視覚特性と色彩工学の基礎横浜国立大学岡嶋 克典
計測器プレゼンテーショントレックジャパン
(株)栄和
三ツワ理化学工業(株)
山本通商(株)
富士フイルムイメージテック(株)
快適画像再現のための画像処理小寺イメージングラボラトリー小寺 宏曄
電子写真システム設計とプロセスコントロール技術富士ゼロックス(株)山田 邦夫
出力技術大競争時代の到来と電子写真の生き残り策コニカミノルタビジネスソリューションズ(株)亀井 雅彦
環境に優しい電子写真作像システムとはキヤノン奥田 幸一

 

<シミュレーション実演講習>
【第一日】7月20日(木)3Fセミナー室

題 目所 属講 師
イントロダクション早稲田大学川本 広行
ポアソン方程式、熱伝導方程式の物理的な意味リコープリンティングシステムズ(株)栗林 夏城
スプレッドシートによるお手軽電界計算 ’06キヤノン中野 正雄
有限差分法による定着プロセスの熱伝導計算富士ゼロックス伊藤 朋之

 
【第二日】7月21日(金)大ホール

題 目所 属講 師
OPC感光体の基礎と技術動向(株)リコー島田 知幸
電子写真現像剤の基礎と最新動向富士ゼロックス(株)高木 正博
電子写真プロセスにおける可視化計測と解析キヤノン(株)平林 純
帯電プロセスの基礎と技術動向(株)リコー小菅 明朗
転写の基本と技術動向コニカミノルタビジネステクノロジーズ(株)酒向 峰行
定着の基本と最新技術動向富士ゼロックス(株)上原 康博
電子写真シミュレーション実習演習の概要(株)リコー門永 雅史

 

【第二日】7月21日(金)多目的ホール

題 目所 属講 師
インクジェット技術の課題と最新動向キヤノン(株)中島 一浩
産業用インクジェット技術コニカミノルタIJ(株)西 眞一
熱記録技術の基礎と技術動向アルプス電気(株)寺尾 博年
マイクロカプセル顔料インクにおける色制御花王(株)水島 龍馬
インクジェット用紙における要求特性と、インクジェット用紙の特徴を活かした製品王子製紙(株)亀井 正之
電子ペーパー技術とその応用コニカミノルタテクノロジーセンター(株)橋本 清文