“リライタブル技術の動向”
日時：1994年10月20日
場所：東工大大岡山キャンパス百年記念館
主催：電子写真学会
・リライタブル技術総論，
山岡 亜夫（千葉大）
・高分子/低分子複合系リライタブル材料，
堀田 吉彦（リコー）
・ロイコ染料系リライタブル材料，
渡辺 二郎（凸版印刷）
・高分子液晶系リライタブル材料，
井上 彰則（富士ゼロックス）
・磁性体によるリライタブル方式，
住本 充弘（大日本印刷）
・リライタブル印字プロセス，
大野 忠義（東芝）
・リライタブル技術の市場動向，
平松 雄一（沖電気）