日本画像学会

“第2回リライタブル研究会”

日時：1996年2月７日

場所：東工大大岡山キャンパス百年記念館

主催：電子写真学会

　
・ホトクロミック材料，

市村國宏（東工大）

・高分子・低分子複合系リライタブル材料，

稗田 嘉弘（日東電工）

・ロイコ染料系リライタブル材料，

平石 重俊（三菱製紙）

・リライタブル市場動向，

中村 敬一（シーメディア）