プラズマCVD法 （ぷらずましーぶいでぃーほう） 【plasma-enhanced chemical vapor deposition】
基板上にシリコン等の薄膜を形成する蒸着法の一つである．化学反応を活性化するために高周波電圧などを印加することで，原料ガスをプラズマ化させることを特徴としている．a-Si感光体はこのプラズマCVD法を用いて作成されている．この化学的気相成長法には，上記プラズマCVDの他に，温度を上げる「熱CVD」，光を照射する「光CVD」法が有る．また，これら化学的気相成長法に対して，物理的な過程によって薄膜を堆積させる方法を「PVD (physical vapor deposion) 」と言う．
【分野】電子写真(システム他)
【関連用語】：