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フォトマスク (ふぉとますく)    【photomask】

半導体ICを製作するための回路パターンの原版のこと.これを通してフォトレジストに露光する.ガラス基板上に金属膜を蒸着し,フォトレジストを用いてエッチングによりパターンを形成したものが高精度の原版となるが,銀塩写真法によるマスクも多く使用される.

【分野】印刷・写真・入力

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